PVD鍍膜機的工作原理主要基于物理氣相沉積（PVD）技術，這一技術涉及將材料源在真空環境下通過物理方法（如蒸發或濺射）轉化為氣態，然后沉積在基底表面形成薄膜。以下是PVD鍍膜機工作原理的詳細解釋：

一、準備工作

清洗和表面處理：首先，對待鍍物體進行徹底的清洗和表面處理，以確保其表面干凈、無油污、無氧化物等雜質，并具有一定的粗糙度，以增加鍍層的附著力。

放置待鍍物體：將處理好的待鍍物體放置在真空腔室中。真空腔室的作用是將氣體抽取出來，以創建一個低壓環境，避免氣體分子與鍍層材料反應。

二、真空環境的創建

抽氣系統：通過真空泵等設備，將腔室內的氣體抽取至較低的壓強，以創建一個高真空環境。這一步驟至關重要，因為空氣分子會對蒸發的膜體分子產生碰撞，導致結晶體粗糙無光。高真空環境可以顯著減少這種碰撞，使結晶體細密光亮。

三、氣體離子化

通入鍍層材料氣體：在真空腔室中，向氣體供應源中通入所需的鍍層材料氣體，如金屬蒸發源中通入金屬蒸發材料。

加熱氣化：通過電子束加熱或電阻加熱等方式，將鍍層材料加熱至氣化溫度，使其從固體轉變為氣體狀態。

氣體分子碰撞：這些氣體分子隨后會與待鍍物體表面進行碰撞，為后續的離子轟擊和沉積過程做準備。

四、離子轟擊

氣體離子化：離子源通常是通過電離或放電等方式將氣體離子化。

加速和引導離子：加速并引導離子轟擊到待鍍物體表面。

清除雜質和增強結合力：離子轟擊能夠清除待鍍物體表面的氧化物、油脂和雜質等，并提高表面的粗糙度，從而增強鍍層與基材的結合力。

五、沉積

離子沉積：在離子轟擊的作用下，鍍層材料的離子會沉積在待鍍物體表面，并與其結合形成均勻的鍍層。

控制參數：通過控制離子的能量、束流密度和沉積時間等參數，可以獲得不同厚度和性質的鍍層。

綜上所述，PVD鍍膜機利用物理氣相沉積技術，將固態材料轉變為氣態材料，然后通過離子轟擊和沉積的方式將鍍層材料沉積在待鍍物體表面上。這種技術可以提供高質量的鍍層，具有良好的附著力、硬度和耐磨性等特點，廣泛應用于光學、電子、汽車和航空航天等行業。