電弧離子鍍的原理是以冷陰極真空電弧放電理論為基礎的。多弧離子鍍膜機的核心技術是其電弧蒸發源。多弧離子鍍膜機蒸發源是一種特殊的冷陰極電弧自蒸發和自電離固體蒸發源。

1、與傳統的蒸發源相比，多弧離子鍍機的電弧蒸發源優勢明顯

2、涂層密度高，使用壽命長，強度高；

3、作為電弧蒸發的固體源，其形狀、尺寸和位置都可以改變；

4、工作真空范圍大；

5、較高的離子能量；

6、高電離率60%-80%；

7、高沉積速率，如tin，可獲得100nm/S～1000nm/S的高沉積速率。

多弧離子鍍膜機電弧蒸發源的原理是通過冷陰極進行自持電弧放電，這是一種場發射。蒸發源的典型基本結構如下：待鍍基板連接陰極，陽極連接真空室。當真空室被抽到較高的真空狀態時，觸發電極起動器的觸點打開，在陽極和陰極之間形成穩定的電弧放電。陰極表面有許多快速移動的陰極光斑，光斑直徑在1～2μm之間，10μm左右的光斑每秒可移動數十米。電流密度為10?A/cm?-10?A/cm?，電極間電壓也降低到20v-40v，陰極斑點前面有一些等離子體，電子迅速向陽極移動，離子處于相對靜止狀態。在鍍膜空間中，陰極光斑前的正離子聚集成空間正電荷，在陰極表面附近形成10?V/cm~10?的高強度電場，克服陰極處的勢壘，通過強電子發射維持放電。然而，一些離子被陰極轟擊，導致陰極斑點局部快速蒸發和電離，使陰極斑點成為微點的蒸發源。在陰極靶區內，由于絕緣屏蔽和磁場的作用，這些微點蒸發源在陰極靶區內不規則地運動。

1、所謂多弧離子鍍膜機是以多個電弧蒸發源為核心的離子鍍膜設備，又稱多弧鍍膜、電弧鍍膜、電弧鍍膜等，與其他鍍膜工藝相比，具有以下優點：

2、整機結構簡單，生產效率高，工作周期短，適合大規模工業化生產。

3、涂層空間大。電弧蒸發源為固態，可靈活放置，無需額外加熱，工件安裝更換更方便。

4、工藝范圍廣。適用于較高真空度或較低環境溫度（200°C）下的反應電鍍和離子鍍。

5、它具有優良的膜性能。工件的轟擊加熱、清洗、沉積均采用離子金屬等離子體轟擊完成，實現“一弧三用”，膜層結構致密，涂層與鍍件結合牢固。