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產品功能
磁控多弧濺射鍍膜機在真空狀態下，陰陽極間產生輝光放電，極間氣體分子被離子化而產生帶電電荷，其中正離子受陰極之負電位加速運動而撞擊陰極.上之靶材，將其原子等粒子濺出，此濺出之原子則沉積于陽極之基板上而形成薄膜,此物理現象即稱濺鍍，能對各種金屬及非金屬進行表面鍍膜,是工業化生產理想設備。
產品特征
設備特點:離化率高，沉積速率高、磁控濺射低溫穩定
設備應用:手機外殼、首飾、眼鏡架、表殼表帶、高爾夫球頭、3C產品等
膜層特點:復合膜(功能膜)牢固度高、硬度高、韌性好備
注:鍍膜設備的具體配置可根據客戶產品及所需鍍膜工藝
要求進行定制化設計
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